規(guī)格級(jí)別 | 外觀顏色 | ||
該料用途 | |||
備注說(shuō)明 |
性能項(xiàng)目 | 試驗(yàn)條件[狀態(tài)] | 測(cè)試方法 | 測(cè)試數(shù)據(jù) | 數(shù)據(jù)單位 | |
物理性能 | 表面張力 | 50.0μm | 52 | mN/m | |
物理性能 | 表面張力 | 75.0μm | 52 | mN/m | |
物理性能 | 表面張力 | 100.0μm | 52 | mN/m | |
物理性能 | 表面張力 | 125.0μm | 52 | mN/m | |
機(jī)械性能 | 摩擦系數(shù)(與自身-動(dòng)態(tài)) | ASTMD1894 | 0.30 | ||
薄膜 | 抗張強(qiáng)度 | MD:屈服,50μm | ASTMD882 | 196 | MPa |
薄膜 | 抗張強(qiáng)度 | MD:屈服,75μm | ASTMD882 | 196 | MPa |
薄膜 | 抗張強(qiáng)度 | MD:屈服,100μm | ASTMD882 | 196 | MPa |
薄膜 | 抗張強(qiáng)度 | MD:屈服,130μm | ASTMD882 | 186 | MPa |
薄膜 | 抗張強(qiáng)度 | TD:屈服,50μm | ASTMD882 | 235 | MPa |
薄膜 | 抗張強(qiáng)度 | TD:屈服,75μm | ASTMD882 | 216 | MPa |
薄膜 | 抗張強(qiáng)度 | TD:屈服,100μm | ASTMD882 | 216 | MPa |
薄膜 | 抗張強(qiáng)度 | TD:屈服,130μm | ASTMD882 | 206 | MPa |
薄膜 | 伸長(zhǎng)率 | MD:斷裂,50μm | ASTMD882 | 170 | % |
薄膜 | 伸長(zhǎng)率 | MD:斷裂,75μm | ASTMD882 | 170 | % |
薄膜 | 伸長(zhǎng)率 | MD:斷裂,100μm | ASTMD882 | 170 | % |
薄膜 | 伸長(zhǎng)率 | MD:斷裂,130μm | ASTMD882 | 170 | % |
薄膜 | 伸長(zhǎng)率 | TD:斷裂,50μm | ASTMD882 | 120 | % |
薄膜 | 伸長(zhǎng)率 | TD:斷裂,75μm | ASTMD882 | 120 | % |
薄膜 | 伸長(zhǎng)率 | TD:斷裂,100μm | ASTMD882 | 120 | % |
薄膜 | 伸長(zhǎng)率 | TD:斷裂,130μm | ASTMD882 | 120 | % |
薄膜 | F5 | MD:50.0μm | ASTMD882 | 113 | MPa |
薄膜 | F5 | MD:75.0μm | ASTMD882 | 113 | MPa |
薄膜 | F5 | MD:100.0μm | ASTMD882 | 113 | MPa |
薄膜 | F5 | MD:125.0μm | ASTMD882 | 113 | MPa |
薄膜 | F5 | TD:50.0μm | ASTMD882 | 113 | MPa |
薄膜 | F5 | TD:75.0μm | ASTMD882 | 113 | MPa |
薄膜 | F5 | TD:100.0μm | ASTMD882 | 113 | MPa |
薄膜 | F5 | TD:125.0μm | ASTMD882 | 113 | MPa |
光學(xué)性能 | Gardner光澤度 | 60°,50.0μm | ASTMD523 | 160 | |
光學(xué)性能 | Gardner光澤度 | 60°,75.0μm | ASTMD523 | 160 | |
光學(xué)性能 | Gardner光澤度 | 60°,100μm | ASTMD523 | 160 | |
光學(xué)性能 | Gardner光澤度 | 60°,125μm | ASTMD523 | 160 | |
光學(xué)性能 | 透射率 | 50.0μm | ASTMD1003 | 88.0 | % |
光學(xué)性能 | 透射率 | 75.0μm | ASTMD1003 | 88.0 | % |
光學(xué)性能 | 透射率 | 100μm | ASTMD1003 | 88.0 | % |
光學(xué)性能 | 透射率 | 125μm | ASTMD1003 | 88.0 | % |
光學(xué)性能 | 霧度 | 50.0μm | ASTMD1003 | 2.0 | % |
光學(xué)性能 | 霧度 | 75.0μm | ASTMD1003 | 2.5 | % |
光學(xué)性能 | 霧度 | 100μm | ASTMD1003 | 3.4 | % |
光學(xué)性能 | 霧度 | 125μm | ASTMD1003 | 3.5 | % |
補(bǔ)充信息 | HeatShrinkage | MD,30min:125.0μm | 內(nèi)部方法 | 1.0 | % |
補(bǔ)充信息 | HeatShrinkage | MD,30min:150°C,50.0μm | 內(nèi)部方法 | 1.0 | % |
補(bǔ)充信息 | HeatShrinkage | MD,30min:150°C,75.0μm | 內(nèi)部方法 | 1.0 | % |
補(bǔ)充信息 | HeatShrinkage | MD,30min:150°C,100.0μm | 內(nèi)部方法 | 1.0 | % |
補(bǔ)充信息 | HeatShrinkage | TD,30min:150°C,50.0μm | 內(nèi)部方法 | 0.50 | % |
補(bǔ)充信息 | HeatShrinkage | TD,30min:150°C,75.0μm | 內(nèi)部方法 | 0.50 | % |
補(bǔ)充信息 | HeatShrinkage | TD,30min:150°C,100.0μm | 內(nèi)部方法 | 0.50 | % |
補(bǔ)充信息 | HeatShrinkage | TD,30min:150°C,125.0μm | 內(nèi)部方法 | 0.50 | % |
補(bǔ)充信息 | HeatShrinkage | SurfaceTreatment | 內(nèi)部方法 | Bothsides(Corona |
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